三、参考文献 1、ICH Q3C 杂质:残留溶剂的指导原则 2、英国药典 2003 年版 3、欧洲药典第四版 4、美国药典 27 版 5、FDA:Guidence for Industry:Q3c
Impurities:Residual Solvents 6、中国药典 2000 年版 7、《化学药品和治疗用生物制品研究指导原则》 8、中国药典 2005 年版二部附录增修订内容汇编 9、 ICH Impurities:Residual
Solvents (Maintenance) PDE for N-Methylpyrrolidone (NMP) 10、ICH Impurities : Residual Solvents
(Maintenance) PDE for Tetrahydrofuran 11、EMEA:Position Paper on Specification for Class 1
and Class 2 Residual Solvents in Active Substances 四、附录 药物中常见残留溶剂及其限度 五、著者 《化学药物残留溶剂研究技术指导原则》课题研究组。 |